拓荆科技11月25日召开2024年第三季度事迹阐述会，公司董事长吕光泉在与投资者进行调换时暗示，公司一直专注于高端专用半导体开采研发与产业化，永恒坚捏自主革命，为客户提供具有竞争力的居品，并在研发团队、本领积聚、居品平台、市集拓展和售后处事等方面造成竞争上风。当今，公司的PECVD（等离子体增强化学气相千里积）、ALD（原子层千里积）、SACVD（次常压化学气相千里积）等薄膜系列居品已粗犷讹诈于集成电路边界。此外，公司推出的讹诈于三维集成边界的夹杂键合系列居品已结束产业化。相关居品均已达到了国际同类开采先进水平，为公司后续研发奠定了塌实的基础。

　　拓荆科技建立于2010年，是国内专用量产型PECVD、ALD、SACVD等薄膜开采系列居品及键合开采的领军企业。公司永恒坚捏自主研发，构建了完善的常识产权体系，领有多项国际先进的中枢本领。

　　公开数据清晰，本年前三季度，拓荆科技结束交易收入22.78亿元，同比增长33.79%；结束包摄于上市公司鼓励的净利润2.71亿元，同比增长0.10%。三季度，拓荆科技结束交易收入10.11亿元，环比增长27.17%；结束包摄于上市公司鼓励的净利润1.42亿元，环比增长19.33%。

　　阐述会上，针对投资者温煦的订单情况，吕光泉暗示，公司2024年1月份至9月份出货金额同比增长朝上160%；甘休三季度末，条约欠债和存货相较第二季度末均呈现普遍增长态势，不错体现甘休三季度末公司在手订单弥散。公司对2024年全年新矍铄单趋势较为乐不雅。

　　一直以来，拓荆科技永恒保捏较高强度的研发干涉，抑止推出新址品及新工艺，捏续进行开采平台及反馈腔的优化升级。本年，拓荆科技还推出了新式开采平台（PF-300T Plus和PF-300M）和新式反馈腔（pX和Supra-D），进一步扩大居品及工艺粉饰面，擢升居品中枢竞争力。

　　据吕光泉先容，两款新式开采平台的策画进一步擢升了开采产能，机械产能可提高约20%至60%；两款新式反馈腔则进一步擢升了薄膜千里积的性能观念，包括薄膜均匀性、颗粒度等观念，不错同意客户在本领节点更新迭代的经由中对高产能及更严格薄膜性能观念的需求。

　　关于投资者相关后续研发重心的发问，吕光泉暗示，公司将捏续跟进国内芯片制造本领的迭代革命和下搭客户快速发展的需求，抑止冲突中枢本领，拓展新工艺，进一步扩大薄膜工艺粉饰面，擢升薄膜工艺均匀性、颗粒度等关键性能观念，并抑止扩大夹杂键合开采讹诈边界。

　　拓荆科技也在积极拓展国外业务开云体育(中国)官方网站，本年上半年，公司在日本建立了全资子公司。据吕光泉先容，公司已有开采出货至日本，当今也在积极拓展其他国外市集。